A digitális nyomtatási technológiák megjelenésük óta töretlenül fejlődnek és egyre nagyobb teret hódítanak a nyomtatott médiumok területén. Az eltérő nyomtatási technológiákat alkalmazó digitális berendezések által készített nyomatok minőségét többek között lényegesen befolyásolja az alkalmazott nyomathordozók felületének mikroszerkezete és a papírfelület simasága.
A papírfelület nyomtathatóságra gyakorolt hatásának elemzéséhez nélkülözhetetlen a felületi mikrogeometria és mikrotopográfia ismerete. A klasszikus paraméteralapú felületi érdességmérés számos eredménye a papírfelületek vizsgálatában még kevéssé nyert alkalmazást, pedig a kidolgozott új paraméterek és technikák (korrelációs függvényeken alapuló jellemzés, fraktál technika, hullámhossz vizsgálaton alapuló módszerek, stb.) várhatóan itt is eredményesek lehetnek. A papírfelület mikrotopográfiájának paraméteres jellemzése pedig jól kiegészülhet a mikromorfológiáról kapott scanning elektronmikroszkópos fényképfelvételekkel való összevetéssel és elemzéssel.
Kutatási célok:
1. A papírfelületekre jellemző mikrotopográfiai sajátosságok feltárása.
2. A jellemzésben alkalmazható mikrogeometriai és mikrotopográfiai paraméterek kiválasztása, információtartalmuk meghatározása.
3. A nyomtathatósági tulajdonságok és a mikrotopográfiai paraméterek kapcsolatának vizsgálata
Required language skills: magyar Recommended language skills (in Hungarian): angol Number of students who can be accepted: 1
Deadline for application: 2016-05-31
2024. IV. 17. ODT ülés Az ODT következő ülésére 2024. június 14-én, pénteken 10.00 órakor kerül sor a Semmelweis Egyetem Szenátusi termében (Bp. Üllői út 26. I. emelet).
Login
