F Misják, K H Nagy, P J Szabó, G Radnóczi: Effect of Mn Alloying on the Internal and Surface Structure of Cu Thin Films Designed for Interconnect Applications, In: Szerk.: Dr T S Sudarshan, Szerk.: Prof Petri Vuoristo, Szerk.: Dr Heli Koivuluoto Surface Modification Technologies XXVIII. Chennai: Valardocs, 2015. pp. 627-634. 28 dokumentum típusa: Könyvrészlet/Konferenciaközlemény nyelv: angol URL
2014
adattárból, 2016. III. 11.
F Misják, K H Nagy, P Lobotka, G Radnóczi: Electron scattering mechanisms in Cu-Mn films for interconnect applications, JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 116: (8) 8 p. Paper 083507. dokumentum típusa: Folyóiratcikk/Szakcikk független idéző közlemények száma: 1 nyelv: angol URL
2013
adattárból, 2016. III. 11.
K Nagy, F Misják, P Szommer, P Lobotka, G Radnóczi: Composition dependence of morphology, electrical and mechanical properties of sputtered Cu-Mn alloy films, In:Szerk.: Reinhard Rachel MC 2013: Proc. Microscopy Congress 2013.Regensburg, Németország, 2013.08.25-0213.08.30. Regensburg: Universitätsverlag Regensburg, pp. 567-568. Kiadvány: Regensburg: Universitätsverlag Regensburg, 2013. (I.) Material Science dokumentum típusa: Konferenciacikk/Előadás vagy poszter cikke nyelv: angol
a legjelentősebbnek tartott közleményekre kapott független hivatkozások száma:
monográfiák és szakkönyvek száma melyben fejezetet/részt írt:
0
összes tudományos közleményének és alkotásainak független idézettségi száma:
A linkre kattintás után megjelenített idézők száma eltérhet a megjelenített számtól, mert az előbbi az MTMT2 aktuális, utóbbi pedig a tudománymetriai adatok importálásakor érvényes változat.
vékonyrétegek, kialakulási atomi folyamatok, szerkezet és tulajdonságok közötti kapcsolat, elektronmikroszkópia
jelenlegi kutatásainak tudományága
anyagtudományok és technológiák
2024. IV. 17. ODT ülés Az ODT következő ülésére 2024. június 14-én, pénteken 10.00 órakor kerül sor a Semmelweis Egyetem Szenátusi termében (Bp. Üllői út 26. I. emelet).
Bejelentkezés
